GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備

產(chǎn)品型號：

簡要描述：GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

廠家實力
Manufacturer Strength
有效保修
Valid Warranty
質(zhì)量保障
Quality Assurance

產(chǎn)品咨詢

聯(lián)系我們

產(chǎn)品中心

PRODUCT CATEGORY

相關(guān)文章

詳細(xì)介紹

GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

GL SR300是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

通常納米壓印模具的加工需要利用的電子束或者激光直寫技術(shù)、刻蝕技術(shù)等，加工大面積納米壓印母模具成本極其高昂，技術(shù)可行性很低。通過GL SR300步進(jìn)式納米壓印技術(shù)可以將小面積納米壓印模具拼接成大面積納米壓印母模具，然后從大面積母模具可以復(fù)制大面積工作模具，用來進(jìn)行大幅面壓印。這種方式可以大大降低納米壓印模具成本，使得低成本納米壓印生產(chǎn)成為可能。

主要功能

●300mm步進(jìn)式紫外納米壓印
●支持從微透鏡復(fù)制到整面微透鏡陣列模具，用做晶圓級光學(xué)加工母模具
●支持從小面積高精度納米結(jié)構(gòu)模具復(fù)制到大幅面模具，用作CLIV全副面壓印母模具
●支持各種模具材質(zhì)與形狀
●支持旋涂壓印膠基底步進(jìn)式壓印復(fù)制，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)模具拼接
●設(shè)備自帶點膠裝置，支持點膠步進(jìn)式壓印復(fù)制，適用于微透鏡陣列等晶圓級光學(xué)結(jié)構(gòu)模具拼接
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>200mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
●標(biāo)配設(shè)備內(nèi)部潔凈環(huán)境與除靜電裝置
●高精度閉環(huán)控制位移平臺，定位精度優(yōu)于1μm

設(shè)備照片

GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備相關(guān)參數(shù)

兼容基底尺寸	<300mm方形
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
納米壓印技術(shù)	步進(jìn)式納米壓印
壓印精度	優(yōu)于20納米*
結(jié)構(gòu)深寬比	優(yōu)于10比1*
殘余層控制	可小于10nm*
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配）
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制	標(biāo)配，外部環(huán)境Class 100，內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10
自動壓印	支持
自動脫模	支持
自動工作模具復(fù)制	支持
自動點膠	選配
單次壓印面積	50x50mm
定位精度	優(yōu)于1μm